光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统筹，它是制造芯片的核心装备。大家知道，现在的智能化、信息化设备离不开尖端芯片技术。没有芯片，就造不出现代计算机和手机，而没有光刻机，就不容易造出好的芯片。光刻机是全球最精密的仪器，其技术难度是全球公认的。

它的基本原理，就是用极细的激光在芯片底板上开凿出电路线。如果我们将芯片放在高倍显微镜下观察，会发现上面布满了线条，很像一幅大城市的航拍图。这些密密麻麻的线条就是光刻机的杰作。电子沿着这些线条，按人们在键盘输入的命令运行，不同的命令会得出不同的结果。这也像人们在城市里开车，不同的目的地，就会有不同的线路选择。指甲盖大小的芯片，密布了千万条线路，纹丝不能乱，所以它对光刻机的开凿精度要求极高。

目前世界上先进的光刻机刻出的芯片线路，线线间的距离只有3纳米，相当于12个原子排成一排的宽度，约合一根头发丝直径的二万分之一。因制造精密，光刻机价格不菲，单台售价近10亿元人民币。

制造光刻机，最卡脖子的技术有两项:一是稳定的激光源。它使用波长极短的极紫外光，对光学系统要求极高，目前只有美国掌握。二是光刻机的镜头。它由20多块锅底大小的镜片串联组成。镜片需要高纯度的透光材料和高质量的打磨技艺。德国造的光刻机镜片，有极高的光滑度，即使把这些镜片放大到德国国土面积大小(35.7万平方公里，约相当于我国陕西加上山西面积的总和)，镜面上也不会有超过1厘米的凹凸。

除此之外，光刻机在工作时，5万多个零件还要整齐划一地协同工作。对这一协同性能，有科学家做过比喻:好比两架飞机在天上飞，从起飞到降落，始终齐头并进。这时一架飞机上伸出一把刻刀，在另一架飞机上的米粒上刻字!

因此，研发出先进的光刻机，绝不是只懂原理、能画出图纸就能干好的工作。有外国工程师直言不讳地说:“给你们全套图纸，你们也不可能在几年内做出来。”没有对所有细节的极致追求，做不出这种患有“强迫症”的精密机器。光刻机是人类智慧的结晶，是当今世界最尖端的光学、材料学和机械工程学的结合体，也是西方在高科技领域掌握的看家本领之一，绝无可能轻易授予他人。

目前，我国科技创新的许多领域，和发达国家相比，正处在“跟跑、并跑、领跑”三跑并存阶段。未来，随着我国综合国力的不断增强，我们有充分的信心后来居上。